A mirror device having an optical system of an exposure apparatus for
transferring a reticle pattern onto a wafer includes a mirror, a mirror
holding portion, a temperature adjustment unit, a control management
database, and a timing control unit. The mirror reflects exposure light,
and the mirror holding portion holds the mirror. The temperature
adjustment unit adjusts a temperature of the mirror and the mirror holding
portion. The control management database stores data corresponding to a
controlling rule of the temperature adjustment unit necessary to keep the
mirror figure constant for an incidence condition of the reflected
exposure light. The timing control unit controls the temperature
adjustment unit corresponding to the incidence condition of the exposure
light. The timing control unit controls the temperature adjustment unit
based on the stored data of the control management database to keep the
mirror figure constant.
Μια συσκευή καθρεφτών που έχει ένα οπτικό σύστημα μιας συσκευής έκθεσης για ένα σχέδιο σταυρονημάτων επάνω σε μια γκοφρέτα περιλαμβάνει έναν καθρέφτη, μια μερίδα εκμετάλλευσης καθρεφτών, μια μονάδα ρύθμισης θερμοκρασίας, μια διοικητική βάση δεδομένων ελέγχου, και μια μονάδα ελέγχου συγχρονισμού. Ο καθρέφτης απεικονίζει το φως έκθεσης, και η μερίδα εκμετάλλευσης καθρεφτών κρατά τον καθρέφτη. Η μονάδα ρύθμισης θερμοκρασίας ρυθμίζει μια θερμοκρασία του καθρέφτη και της μερίδας εκμετάλλευσης καθρεφτών. Η διοικητική βάση δεδομένων ελέγχου αποθηκεύει τα στοιχεία που αντιστοιχούν σε έναν ελέγχοντας κανόνα της μονάδας ρύθμισης θερμοκρασίας απαραίτητης να κρατήσει τον αριθμό καθρεφτών σταθερό για έναν όρο επίπτωσης του απεικονισμένου φωτός έκθεσης. Η μονάδα ελέγχου συγχρονισμού ελέγχει τη μονάδα ρύθμισης θερμοκρασίας που αντιστοιχεί στον όρο επίπτωσης του φωτός έκθεσης. Η μονάδα ελέγχου συγχρονισμού ελέγχει τη μονάδα ρύθμισης θερμοκρασίας βασισμένη στα αποθηκευμένα στοιχεία της διοικητικής βάσης δεδομένων ελέγχου για να κρατήσει τη σταθερά αριθμού καθρεφτών.
