A mask data correction apparatus that can increase efficiency of processing
while maintaining high accuracy by effectively using the hierarchical
structure of a layout data: A Fourier transformation part performs Fourier
transformation of base elements defined by the layout data to obtain
Fourier images of the base elements. A synthesizing part superimposes,
based on the hierarchical structure, the Fourier images of the base
elements in Fourier space, to obtain a Fourier image of the entire
graphic. A spatial filter part subjects the Fourier image of the entire
graphic to spatial filter processing that corresponds to distortion
expected in a manufacturing process. An inverse Fourier transformation
part performs inverse Fourier transformation of the Fourier image after
spatial filter processing, to obtain the inverse Fourier image reflecting
the distortion. The graphic defined by the layout data is compared with
the graphic of which inverse Fourier image has been transformed, and is
corrected in such a direction as to suppress distortion, and then is
outputted as a mask data.
Un aparato de la corrección de los datos de la máscara que puede aumentar la eficacia del proceso mientras que alta exactitud que mantiene con eficacia usando la estructura jerárquica de datos de la disposición: Una pieza de la transformación de Fourier realiza la transformación de Fourier de los elementos bajos definidos por los datos de la disposición para obtener las imágenes de Fourier de los elementos bajos. Una parte de sintetización sobrepone, basado en la estructura jerárquica, las imágenes de Fourier de los elementos bajos en el espacio de Fourier, para obtener una imagen de Fourier del gráfico entero. Una pieza espacial del filtro sujeta la imagen de Fourier del gráfico entero al procedimiento de filtrado espacial que corresponde a la distorsión esperada en un proceso de fabricación. Una pieza inversa de la transformación de Fourier realiza la transformación inversa de Fourier de la imagen de Fourier después del filtro espacial que procesa, para obtener la imagen inversa de Fourier que refleja la distorsión. El gráfico definido por los datos de la disposición se compara con el gráfico de el cual se ha transformado la imagen inversa de Fourier, y se corrige en tal dirección en cuanto a suprime la distorsión, y después está outputted como datos de la máscara.
