A sulfonyloxime compound is provided which is represented by a general
formula (1):
##STR1##
wherein, R.sup.1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group,
or a heteroaryl group; R.sup.2 represents an alkyl group, an aryl group,
or a heteroaryl group; X represents a halogen atom; Y represents
--R.sup.3, a --CO--R.sup.3 group, --COO--R.sup.3 group, --CONR.sup.3
R.sup.4 group, --S--R.sup.3 group, --SO--R.sup.3 group, --SO.sub.2
--R.sup.3 group, a --CN group or a --NO.sub.2 group, and R.sup.3 and
R.sup.4 within the Y group each represent a hydrogen atom, an alkyl group,
an aryl group, or a heteroaryl group, although any two of R.sup.1, R.sup.2
and R.sup.3 may also be bonded together to form a cyclic structure, and
furthermore dimers of a compound represented by the general formula (1) in
which R.sup.1, R.sup.2 or Y groups from separate molecules are bonded
together to form a single bivalent group, are also possible. This compound
is very useful as a radiation sensitive acid generator which is sensitive
to activated radiation such as far ultraviolet radiation or electron beams
and the like, and displays superior heat stability and storage stability.
Furthermore, chemically amplified positive type or negative type radiation
sensitive resin compositions incorporating such a radiation sensitive acid
generator are also provided.
Un residuo del sulfonyloxime è fornito che è rappresentato da una formula generale (1): ## del ## STR1 in cui, R.sup.1 rappresenta un atomo dell'idrogeno, un gruppo alchile, un gruppo arilico, o un gruppo di heteroaryl; R.sup.2 rappresenta un gruppo alchile, un gruppo arilico, o un gruppo di heteroaryl; X rappresenta un atomo dell'alogeno; Y rappresenta -- R.sup.3, a -- CO -- gruppo R.sup.3, -- COO -- gruppo R.sup.3, -- gruppo di CONR.sup.3 R.sup.4, -- S -- gruppo R.sup.3, -- così -- gruppo R.sup.3, -- SO.sub.2 -- gruppo R.sup.3, un gruppo di --CN o a -- il gruppo NO.sub.2 e R.sup.3 e R.sup.4 presso il gruppo di Y ciascuno rappresentano un atomo dell'idrogeno, un gruppo alchile, un gruppo arilico, o un gruppo di heteroaryl, anche se qualunque due di R.sup.1, di R.sup.2 e di R.sup.3 possono anche essere legati insieme per formare una struttura ciclica ed ancora i dimeri di un residuo rappresentato dalla formula generale (1) in cui i gruppi di R.sup.1, di R.sup.2 o di Y dalle molecole separate sono legati insieme alla forma un il singolo gruppo bivalente, sono inoltre possibili. Questo residuo è molto utile come generatore acido sensibile di radiazione che è sensibile a radiazione attivata quali i fasci elettronici lontani o di radiazione ultravioletta ed i simili e visualizza la stabilità superiore di immagazzinaggio e di stabilità al calore. Ancora, il tipo positivo chimicamente amplificato o il tipo negativo composizioni sensibili nella resina di radiazione che incorporano un generatore acido sensibile di radiazione inoltre è fornito.
