Multilayer-film mirrors are disclosed that exhibit high reflectivity to
incident X-radiation independently of the angle of incidence and without
significantly compromising optical performance. Also disclosed are X-ray
optical systems and microlithography apparatus comprising such mirrors. In
an embodiment a multilayer-film mirror is formed by alternately laminating
Mo layers (a material in which the difference between its refractive index
in the weak X-ray band and its refractive index in a vacuum is great) and
Si layers (a material in which said difference is small) on a substrate.
The ratio (.GAMMA.) of the thickness of the Mo layer to the total of the
thickness of the Mo layer and the thickness of the Si layer has a
distribution based on the distribution of angles of incidence of
X-radiation on the mirror surface. By providing .GAMMA. with a
distribution that corresponds with the distribution of the angles of
incidence in the mirror surface, maximum reflectivity can be obtained at
the angles of incidence at various points within the mirror surface.
Because there is no need to change the period length in this case, there
is no deterioration in the optical performance of the mirror.
Mehrschichtig-Film Spiegel werden freigegeben, die hohes Reflexionsvermögen zur Ereignis X-Strahlung unabhängig des Einfallswinkels ausstellen und ohne optische Leistung erheblich sich zu vergleichen. Auch gegeben optische Systeme des Röntgenstrahls und die microlithography Apparate, die solche Spiegel enthalten frei. In einer Verkörperung wird ein Mehrschichtigfilm Spiegel durch wechselnd lamellierende MO Schichten (ein Material, in dem der Unterschied zwischen seinem Brechungsindex im schwachen Röntgenstrahlband und seinem Brechungsindex in einem Vakuum groß ist) und Silikon Schichten (ein Material, in dem besagter Unterschied klein ist), auf einem Substrat gebildet. Das Verhältnis (GAMMA.) von der Stärke der MO Schicht zur Gesamtmenge der Stärke der MO Schicht und der Stärke Silikons hat die Schicht eine Verteilung, die auf der Verteilung von Einfallswinkeln der X-Strahlung auf der Spiegeloberfläche basiert. Indem man GAMMA. Mit einer Verteilung versieht, die mit der Verteilung der Einfallswinkel in der Spiegeloberfläche entspricht, kann maximales Reflexionsvermögen in den Einfallswinkeln an den verschiedenen Punkten innerhalb der Spiegeloberfläche erreicht werden. Weil es keine Notwendigkeit gibt, die Periodendauer in diesem Fall zu ändern, gibt es keine Verschlechterung in der optischen Leistung des Spiegels.
