An aspect of the present invention includes a method to print pattern with
improved edge acuity. In one embodiment a method for printing fine
patterns comprising the actions of: providing an SLM and providing a pixel
layout pattern with different categories of modulating elements, the
categories differing in the phase of the complex amplitude. Other aspects
of the present invention are reflected in the detailed description,
figures and claims.
Ein Aspekt der anwesenden Erfindung schließt eine Methode ein, um Muster mit verbesserter Randschärfe zu drucken. In einer Verkörperung eine Methode für den Druck der feinen Muster, welche die Tätigkeiten von enthalten: einem SLM und dem Versehen eines Pixelplanmusters mit unterschiedlichen Kategorien der Modulationselemente versorgen, die Kategorien, die in der Phase des komplizierten Umfanges sich unterscheiden. Andere Aspekte der anwesenden Erfindung werden in der ausführlichen Beschreibung, in den Abbildungen und in den Ansprüchen reflektiert.
