The object of this invention is to provide a technique of effectively
purging a space almost closed with a master and pellicle film with inert
gas in an exposure apparatus which uses ultraviolet rays as exposure
light, purges the interior of the apparatus with inert gas, and projects
the pattern of a master onto a photosensitive substrate via a projection
optical system. To achieve this object, a plurality of vent holes are
formed in a structure obtained by surrounding by a surrounding member a
gas purge space to be purged with inert gas. A vessel which forms a space
around the structure is filled with inert gas to cause inert gas to enter
the gas purge space, purging the gas purge space with inert gas.
Das Ziel dieser erfindung ist, eine Technik von eines Raumes effektiv bereinigen zu versehen, der fast mit einem Meister und einem pellicle Film mit Edelgas in einem Belichtung Apparat geschlossen wird, der ultraviolette Strahlen als Belichtung Licht benutzt, das Inneren vom Apparat mit Edelgas bereinigt und das Muster eines Meisters auf ein lichtempfindliches Substrat über ein Projektion optisches System projiziert. Um diesen Gegenstand zu erzielen, werden eine Mehrzahl der Entlüftungslöcher in einer Struktur gebildet, die indem man durch ein umgebendes Mitglied einen mit Edelgas zu bereinigenden Gasbereinigung Raum erhalten wird umgibt. Ein Behälter, der einen Raum um die Struktur bildet, wird mit Edelgas gefüllt, um Edelgas zu veranlassen, den Gasbereinigung Raum einzutragen und bereinigt den Gasbereinigung Raum mit Edelgas.
