The present invention provides a method of manufacturing a nonlinear
element capable further improving nonlinearity of a nonlinear element, an
electrooptic device, and electronic apparatus. In forming an element
substrate of a liquid crystal device, an underlying layer is formed on the
surface of the element substrate in the underlying layer forming step (a),
and then a first metal film having a metal film containing at least Ta is
formed in the first metal film forming step (b). Then, in the insulating
film forming step (c), the first metal film is annealed under high
pressure in an atmosphere containing water vapor to form an insulating
film on the first metal film. Then, in the second metal film forming step,
a second metal film is formed on the surface of the insulating film to
produce a nonlinear element.
La presente invenzione fornisce un metodo di produzione della non linearità migliorante ulteriore capace dell'elemento non lineare di un elemento non lineare, di un dispositivo elettroottico e dell'apparecchio elettronico. Nel formare un substrato dell'elemento di un dispositivo a cristallo liquido, uno strato di fondo è formato sulla superficie del substrato dell'elemento nello strato di fondo che forma il punto (a) ed allora una prima pellicola del metallo che ha una pellicola del metallo contenere almeno l'AT è formata nella prima pellicola del metallo che forma il punto (b). Allora, nella pellicola isolante che forma il punto (c), la prima pellicola del metallo è temprata sotto alta pressione in un atmosfera che contiene il vapore acqueo per formare una pellicola isolante sulla prima pellicola del metallo. Allora, nella seconda pellicola del metallo che forma il punto, una seconda pellicola del metallo è formata sulla superficie della pellicola isolante per produrre un elemento non lineare.
