X-ray projection exposure apparatus and a device manufacturing method

   
   

An exposure apparatus includes a chuck for holding an object and an optical system for directing light from a light source to the object held by the chuck. The optical system includes a multilayer film mirror which has a concave reflecting surface, wherein an area of contacting portions of the chuck is set so that the contact portions area of the chuck is at most 10% of an area of the object held by the chuck.

Un appareillage d'exposition inclut un mandrin pour tenir un objet et un système optique pour diriger la lumière d'une source lumineuse vers l'objet tenu par le mandrin. Le système optique inclut un miroir multicouche de film qui a une surface se reflétante concave, où une superficie de contact les parties du mandrin est placée de sorte que le secteur de parties de contact du mandrin soit tout au plus 10% d'un secteur de l'objet tenu par le mandrin.

 
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