System and method for electronic shaping of X-ray beams

   
   

A system and method for delivering radiation that comprises a source for creating an electron beam, a system that focuses the electron beam and then deflects the beam such that the beam is swept across a first target as an arbitrary pattern. The arbitrary pattern on the first target is given an additional intensity modulation. Thereafter, a lens focuses the arbitrary pattern of electrons from the first target onto a second target.

Ein System und eine Methode für das Liefern der Strahlung, die eine Quelle für das Verursachen eines Elektronenstrahls, ein System enthält, das den Elektronenstrahl und dann fokussiert, den Lichtstrahl so ablenkt, daß der Lichtstrahl über einem ersten Ziel als willkürliches Muster gefegt wird. Das willkürliche Muster auf dem ersten Ziel wird eine zusätzliche Intensitätsmodulation gegeben. Danach fokussiert ein Objektiv das willkürliche Muster der Elektronen vom ersten Ziel auf ein zweites Ziel.

 
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