A method of using PFCs recovered from the effluent of a CVD chamber
cleaning process as an influent for the cleaning process is provided which
includes the steps of selecting a first PFC gas mixture having a first
ratio of C.sub.2 F.sub.6 to CF.sub.4, providing the first PFC gas mixture
as the influent gas to the CVD chamber to create a CVD chamber effluent
gas of a second PFC gas mixture having a second ratio of C.sub.2 F.sub.6
to CF.sub.4, adding virgin C.sub.2 F.sub.6 or CF.sub.4 to the CVD chamber
effluent gas in sufficient quantity to create a third PFC gas mixture
having the first ratio of C.sub.2 F.sub.6 to CF.sub.4, and using the third
PFC gas mixture as the influent gas to the CVD chamber.
Обеспечен метод использования PFCs взятый от effluent процесса чистки камеры cvd как influent для процесса чистки вклюает шаги выбирать первую газовую смесь PFC имея первый коэффициент C.sub.2 F.sub.6 к CF.sub.4, обеспечивающ первую газовую смесь PFC по мере того как газ influent к камере cvd для того чтобы создать газ камеры cvd выходящий второй газовой смеси PFC имея второй коэффициент C.sub.2 F.sub.6 к CF.sub.4, добавляя виргинское C.sub.2 F.sub.6 или CF.sub.4 к газу камеры cvd выходящему в достаточно количестве для того чтобы создать третью газовую смесь PFC имея первый коэффициент C.sub.2 F.sub.6 к CF.sub.4, и используя третий газ PFC смесь как газ influent к камере cvd.
