Two-dimensional, anti-scatter grid and collimator designs, and its motion, fabrication and assembly

   
   

A grid, for use with electromagnetic energy emitting devices, includes at least metal layer, which is formed, for example, by electroplating. The metal layer includes top and bottom surfaces, and a plurality of solid integrated walls. Each of the solid integrated walls extends from the top to bottom surface and having a plurality of side surfaces. The side surfaces of the solid integrated walls are arranged to define a plurality of openings extending entirely through the layer. At least some of the walls also can include projections extending into the respective openings formed by the walls. The projections can be of various shapes and sizes, and are arranged so that a total amount of wall material intersected by a line propagating in a direction along an edge of the grid is substantially the same as another total amount of wall material intersected by another line propagating in another direction substantially parallel to the edge of the grid at any distance from the edge.

Ein Rasterfeld, für Gebrauch mit der elektromagnetischen Energie, die Vorrichtungen ausstrahlt, schließt mindestens Metallschicht, die gebildet wird, z.B. ein indem es galvanisiert. Die Metallschicht schließt die oberen und Grundflächen und eine Mehrzahl der festen integrierten Wände ein. Jede der festen integrierten Wände verlängert von der Oberseite auf Grundfläche und Haben einer Mehrzahl der seitlichen Oberflächen. Die seitlichen Oberflächen der festen integrierten Wände werden geordnet, um eine Mehrzahl der Öffnungen zu definieren, die völlig durch die Schicht verlängern. Mindestens einige der Wände können die Projektionen auch einschließen, die in die jeweiligen Öffnungen verlängern, die durch die Wände gebildet werden. Die Projektionen können von den verschiedenen Formen und von den Größen sein und werden geordnet, damit eine Gesamtmenge Wandmaterial geschnitten durch eine Linie, die in einer Richtung entlang einen Rand des Rasterfeldes fortpflanzt, im wesentlichen dieselbe ist, die eine andere Gesamtmenge Wandmaterial durch eine andere Linie schnitt, die in einer anderen Richtung fortpflanzt, die zum Rand des Rasterfeldes in jedem möglichem Abstand vom Rand im wesentlichen parallel ist.

 
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