A rigid pellicle, used to protect a patterned reticle from contamination in
a lithographic process in the manufacture of integrated circuits, is
attached to a mounting frame by fusing the pellicle and frame together. In
one embodiment, an infrared laser beam is used to produce the fusion along
the seam between the pellicle and the frame. The frame may also be
attached to the reticle through a similar fusion process. In one
embodiment, the pellicle, frame, and reticle are all comprised of fused
silica.
Een stijve pellicle, die wordt gebruikt om een gevormd dradenkruis tegen verontreiniging in een lithografisch proces in de vervaardiging van geïntegreerde schakelingen te beschermen, wordt vastgemaakt aan een opzettend kader door pellicle samen te smelten en kader. In één belichaming, wordt een infrarode laserstraal gebruikt om de fusie langs de naad tussen pellicle en het kader te veroorzaken. Het kader kan ook aan het dradenkruis door een gelijkaardig fusieproces worden vastgemaakt. In één belichaming, worden pellicle, het kader, en het dradenkruis allen samengesteld van gesmolten kiezelzuur.
