A reproducing head of a thin-film magnetic head incorporates an MR element,
a pair of bias field applying layers located to be adjacent to side
portions of the MR element, and a pair of electrode layers that are
located on the bias field applying layers and overlap the MR element. The
electrode layers each have a first layer, a second layer, and a third
layer. The first layer is laid over part of the top surface of the MR
element via a protection layer, the second layer overlaps the first layer,
and the third layer is located on the second layer. The second layer is
thinner than the third layer. In the method of manufacturing the
reproducing head, after the protection layer is formed on an element-to-be
film to make the MR element, a first electrode-to-be film to make the
first layers is formed continuously without interposing a step of exposing
the protection layer to the air.
Una testa di riproduzione di una testa magnetica di sottili pellicole incorpora un SIG. elemento, un accoppiamento del campo diagonale che applicano gli strati individuati per essere adiacente alle parti laterali del SIG. elemento e un accoppiamento degli strati dell'elettrodo che sono posizionati sul campo diagonale che applica gli strati e coincidono il SIG. elemento. L'elettrodo fa uno strato di ciascuno ha un primo strato, un secondo strato e un terzo strato. Il primo strato è posto sopra la parte della superficie superiore del SIG. elemento via uno strato di protezione, il secondo strato coincide il primo strato ed il terzo strato è situato sul secondo strato. Il secondo strato è più sottile del terzo strato. Nel metodo di produzione della testa di riproduzione, dopo che lo strato di protezione sia formato su una pellicola di elemento-$$$-ESSERE per fare il SIG. elemento, un primo elettrodo-$$$-È pellicola per fare i primi strati è formato continuamente senza interporre un punto di esporre lo strato di protezione all'aria.
