The invention includes new polymers and methods for providing such polymers
and photoresists that comprises the polymers. Methods of the invention
include those that comprise providing a reaction mixture and adding over
the course of a polymerization reaction one or more polymerization
reagents to the reaction mixture to provide the polymer. Photoresists
containing a polymer of the invention can exhibit significantly improved
lithographic properties.
L'invention inclut de nouveaux polymères et méthodes pour prévoir de tels polymères et vernis photosensibles qui comporte les polymères. Les méthodes de l'invention incluent ceux qui comportent fournir un mélange de la réaction et ajouter au-dessus du cours d'une réaction de polymérisation un ou plusieurs réactifs de polymérisation au mélange de la réaction pour fournir le polymère. Les vernis photosensibles contenant un polymère de l'invention peuvent présenter les propriétés lithographiques sensiblement améliorées.
