An alignment system for a lithographic apparatus has a source of alignment
radiation that has a first wavelength and a second wavelength; a detection
system that has a first wavelength channel arranged to receive alignment
radiation from an alignment mark at the first wavelength and a second
wavelength channel arranged to receive alignment radiation from the
alignment mark at the second wavelength; and a position determining unit
in communication with the detection system. The position determining unit
processes information from the first and second wavelength channels in
combination to determine a position of the alignment mark based on
information from the first wavelength channel, information from the second
wavelength channel or combined information from the first and second
wavelength channels according to a relative strength of the alignment
radiation detected at the first wavelength to alignment radiation detected
at the second wavelength. A lithographic apparatus includes the above
alignment system. Methods of alignment and manufacturing devices use the
above alignment system and lithographic apparatus, respectively.
Un sistema de la alineación para un aparato litográfico tiene una fuente de la radiación de la alineación que tiene una primera longitud de onda y una segunda longitud de onda; un sistema de la detección que tiene un primer canal de la longitud de onda dispuesto para recibir la radiación de la alineación de una marca de alineación en la primera longitud de onda y un segundo canal de la longitud de onda arregló recibir la radiación de la alineación de la marca de alineación en la segunda longitud de onda; y una posición que determina la unidad en la comunicación con el sistema de la detección. La posición que determina la información de los procesos de la unidad de los primeros y segundos canales de la longitud de onda en la combinación para determinar una posición de la marca de alineación basada en la información del primer canal de la longitud de onda, la información del segundo canal de la longitud de onda o la información combinada de los primeros y segundos canales de la longitud de onda según una fuerza relativa de la radiación de la alineación detectada en la primera longitud de onda a la radiación de la alineación detectada en la segunda longitud de onda. Un aparato litográfico incluye el sistema antedicho de la alineación. Los métodos de dispositivos de la alineación y de la fabricación utilizan el sistema antedicho de la alineación y el aparato litográfico, respectivamente.
