Hot wall rapid thermal processor

   
   

An apparatus for heat treatment of a wafer. The apparatus includes a heating chamber having a heat source. A cooling chamber is positioned adjacent to the heating chamber and includes a cooling source. A wafer holder is configured to move between the cooling chamber and the heating chamber through a passageway and one or more shutters defines the size of the passageway. The one or more shutters are movable between an open position where the wafer holder can pass through the passageway and an obstructing position which defines a passageway which is smaller than the passageway defined when the shutter is in the open position.

Μια συσκευή για τη θερμική επεξεργασία μιας γκοφρέτας. Η συσκευή περιλαμβάνει μια αίθουσα θέρμανσης που έχει μια πηγή θερμότητας. Μια δροσίζοντας αίθουσα τοποθετείται δίπλα στην αίθουσα θέρμανσης και περιλαμβάνει μια πηγή ψύξης. Ένας κάτοχος γκοφρετών διαμορφώνεται για να κινηθεί μεταξύ της δροσίζοντας αίθουσας και η αίθουσα θέρμανσης μέσω ενός περάσματος και ενός ή περισσότερων παραθυρόφυλλων καθορίζει το μέγεθος του περάσματος. Τα ένα ή περισσότερα παραθυρόφυλλα είναι κινητά μεταξύ μιας ανοικτής θέσης όπου ο κάτοχος γκοφρετών μπορεί να περάσει μέσω του περάσματος και μιας θέσης παρεμπόδισης που καθορίζει ένα πέρασμα που είναι μικρότερο από το πέρασμα καθόρισε πότε το παραθυρόφυλλο είναι στην ανοικτή θέση.

 
Web www.patentalert.com

< Control means for a horizontal boring tool

< Method and arrangement for performing positioning

> Method and apparatus for pest deterrence

> Timely organized ad hoc network and protocol for timely organized ad hoc network

~ 00156