An apparatus for heat treatment of a wafer. The apparatus includes a
heating chamber having a heat source. A cooling chamber is positioned
adjacent to the heating chamber and includes a cooling source. A wafer
holder is configured to move between the cooling chamber and the heating
chamber through a passageway and one or more shutters defines the size of
the passageway. The one or more shutters are movable between an open
position where the wafer holder can pass through the passageway and an
obstructing position which defines a passageway which is smaller than the
passageway defined when the shutter is in the open position.
Μια συσκευή για τη θερμική επεξεργασία μιας γκοφρέτας. Η συσκευή περιλαμβάνει μια αίθουσα θέρμανσης που έχει μια πηγή θερμότητας. Μια δροσίζοντας αίθουσα τοποθετείται δίπλα στην αίθουσα θέρμανσης και περιλαμβάνει μια πηγή ψύξης. Ένας κάτοχος γκοφρετών διαμορφώνεται για να κινηθεί μεταξύ της δροσίζοντας αίθουσας και η αίθουσα θέρμανσης μέσω ενός περάσματος και ενός ή περισσότερων παραθυρόφυλλων καθορίζει το μέγεθος του περάσματος. Τα ένα ή περισσότερα παραθυρόφυλλα είναι κινητά μεταξύ μιας ανοικτής θέσης όπου ο κάτοχος γκοφρετών μπορεί να περάσει μέσω του περάσματος και μιας θέσης παρεμπόδισης που καθορίζει ένα πέρασμα που είναι μικρότερο από το πέρασμα καθόρισε πότε το παραθυρόφυλλο είναι στην ανοικτή θέση.
