Carbon nanotubes are formed on a surface of a substrate using a plasma
chemical deposition process. After the nanotubes have been grown, a
post-treatment step is performed on the newly formed nanotube structures.
The post-treatment removes graphite and other carbon particles from the
walls of the grown nanotubes and controls the thickness of the nanotube
layer. The post-treatment is performed with the plasma at the same
substrate temperature. For the post-treatment, the hydrogen containing gas
is used as a plasma source gas. During the transition from the nanotube
growth step to the post-treatment step, the pressure in the plasma process
chamber is stabilized with the aforementioned purifying gas without
shutting off the plasma in the chamber. This eliminates the need to purge
and evacuate the plasma process chamber.
Ο άνθρακας nanotubes διαμορφώνεται σε μια επιφάνεια ενός υποστρώματος χρησιμοποιώντας μια χημική διαδικασία απόθεσης πλάσματος. Αφότου έχουν αυξηθεί τα nanotubes, ένα μετά τη θεραπεία βήμα εκτελείται στις πρόσφατα διαμορφωμένες nanotube δομές. Ο μετά τη θεραπεία αφαιρεί το γραφίτη και άλλα μόρια άνθρακα από τους τοίχους αυξημένη nanotubes και ελέγχει το πάχος του στρώματος nanotube. Ο μετά τη θεραπεία εκτελείται με το πλάσμα στην ίδια θερμοκρασία υποστρωμάτων. Για το μετά τη θεραπεία, ο περιορισμός υδρογόνου αέριο χρησιμοποιείται ως πηγή πλάσματος αέριο. Κατά τη διάρκεια της μετάβασης από το βήμα αύξησης nanotube στο μετά τη θεραπεία βήμα, η πίεση στην αίθουσα διαδικασίας πλάσματος σταθεροποιείται με τον προαναφερθέντα καθαρισμό αέριο χωρίς αποκλεισμό του πλάσματος στην αίθουσα. Αυτό εξαλείφει την ανάγκη να εξαγνιστεί και να εκκενωθεί η αίθουσα διαδικασίας πλάσματος.
