A method and apparatus for maintaining a purged optical gap between a
pellicle and a reticle in a photolithography system. A frame between a
reticle and a pellicle maintains the purged optical gap. The frame defines
first and second opposing surfaces. The first opposing surface defines a
first opening, and is configured to mate with the pellicle. The second
opposing surface defines a second opening, and is configured to mate with
the reticle to enclose the optical gap between the pellicle and the
reticle. At least one edge of the frame has an opening therethrough. A
porous sintered material fills each opening through an edge of the frame.
Eine Methode und ein Apparat für das Beibehalten eines optischen Bereinigungsabstandes zwischen einem pellicle und einem Reticle in einem photolithographiesystem. Ein Rahmen zwischen einem Reticle und einem pellicle behält den optischen Bereinigungsabstand bei. Der Rahmen definiert zuerst und an zweiter Stelle entgegensetzende Oberflächen. Die erste entgegensetzende Oberfläche definiert eine erste Öffnung und wird zusammengebaut, um im pellicle zu verbinden. Die zweite entgegensetzende Oberfläche definiert eine zweite Öffnung und wird zusammengebaut, um im Reticle zu verbinden, um den optischen Abstand zwischen dem pellicle und dem Reticle zu umgeben. Mindestens hat ein Rand des Rahmens eine Öffnung dadurch. Ein poröses gesintertes Material füllt jede Öffnung durch einen Rand des Rahmens.
