An electron beam source has a photocathode with a photoemitter material
having a work function, and with a beam receiving portion and an electron
emitting portion. A first light source directs a first light beam onto the
beam receiving portion of the photocathode to generate an electron beam
from the electron emitting portion. The first light beam has a wavelength
.lambda..sub.1 such that hc/.lambda..sub.1 is at least about the work
function of the photoemitter material, where `h` is Planck's constant and
`c` is the speed of light. A second light source directs a second light
beam onto the beam receiving portion of the photocathode, such as onto the
beam receiving portion, to stabilize the electron beam. The second light
beam having a wavelength .lambda..sub.2 such that hc/.lambda..sub.2 is
less than about the work function of the photoemitter material.
Une source de faisceau d'électrons a une photocathode avec un matériel de photo-émetteur ayant une fonction de travail, et avec un faisceau recevant la partie et un électron émettant la partie. Une première source lumineuse dirige un premier faisceau lumineux sur le faisceau recevant la partie de la photocathode pour produire d'un faisceau d'électrons de l'électron émettant la partie. Le premier faisceau lumineux a un lambda..sub.1 de longueur d'onde tels que hc/.lambda..sub.1 est au moins au sujet de la fonction de travail du matériel de photo-émetteur, où le h` de ` est la constante de Planck et le c` de ` est la vitesse de la lumière. Une deuxième source lumineuse dirige un deuxième faisceau lumineux sur le faisceau recevant la partie de la photocathode, comme sur le faisceau recevant la partie, pour stabiliser le faisceau d'électrons. Le deuxième faisceau lumineux ayant un lambda..sub.2 de longueur d'onde tels que hc/.lambda..sub.2 est moins qu'au sujet de la fonction de travail du matériel de photo-émetteur.
