A photomask is disclosed for the fabrication of an optical fiber block
including a first section provided with slit arrays adapted to form an
optical fiber alignment region of the optical fiber block while having a
uniform slit pitch, partition portions arranged between adjacent ones of
the slit arrays while having a pitch larger than the slit pitch, and end
portions arranged outside the slit arrays while having a pitch larger than
the slit pitch. The photomask also includes a second section adapted to
form a stress-reducing recessed region of the optical fiber block etched
to a desired depth from the level of the optical fiber alignment region.
The photomask also includes auxiliary slit arrays arranged at an interface
between the first and second sections. The auxiliary slit array includes
at least one slit.
Photomask показан для изготовления блока оптически волокна включая первый раздел обеспеченный при блоки разреза приспособленные для того чтобы сформировать зону выравнивания оптически волокна блока оптически волокна пока имеющ тангаж разреза формы, части перегородки аранжированные между смежными одним из блоков разреза пока иметь тангаж более большой чем тангаж разреза, и части конца аранжировал снаружи блоки разреза пока имеющ тангаж более большой чем тангаж разреза. Photomask также вклюает второй раздел приспособленный для того чтобы сформировать усиливать-umen6wa4 утопленную зону блока оптически волокна вытравленного к заданной глубине от уровня зоны выравнивания оптически волокна. Photomask также вклюает блоки разреза auxiliary аранжированные на поверхности стыка между первыми и вторыми разделами. Вспомогательный блок разреза вклюает по крайней мере разрезанное одно.
