A multilayer micromirror structure that exhibits substantially no form
change as a result of a given change in temperature is disclosed. A
reflective layer is disposed on a substrate layer, and a counterbalancing
structure is disposed on the structure in a way such that a neutral plane
is located at a predetermined position relative to the substrate layer and
the reflective layer. When forces are exerted at the neutral plane of such
a structure, the structure attains a predetermined geometric form. A
method of manufacture is disclosed wherein a substrate is etched to define
a desired structure and a conformal layer of a masking material is
deposited onto the etched substrate. Further etching exposes portions of
the substrate and silicon is deposited to achieve another desired
structure. Excess material is etched away to free the finished structure
and a reflective layer is deposited onto the surface of the structure.
Uma estrutura multilayer do micromirror que não exiba substancialmente nenhuma mudança do formulário em conseqüência de uma mudança dada na temperatura é divulgada. Uma camada reflexiva é disposta em uma camada da carcaça, e uma estrutura contrabalançando é disposta na estrutura em uma maneira tais que um plano neutro está ficado situado em uma posição predeterminada relativo à camada da carcaça e à camada reflexiva. Quando as forças são exercidas no plano neutro de tal estrutura, a estrutura alcança um formulário geométrico predeterminado. Um método da manufatura é divulgado wherein uma carcaça é gravada para definir uma estrutura desejada e uma camada conformal de um material mascarando é depositada na carcaça gravada. Gravura a água-forte mais adicional expõe parcelas da carcaça e o silicone é depositado para conseguir uma outra estrutura desejada. O material adicional é gravado afastado para livrar a estrutura terminada e uma camada reflexiva é depositada na superfície da estrutura.
