A method is described for producing a microstructured surface relief by
applying to a substrate a coating composition which is thixotropic or
which acquires thixotropic properties by pretreatment on the substrate,
embossing the surface relief into the applied thixotropic coating
composition with an embossing device, and curing the coating composition
following removal of the embossing device. The substrates obtainable by
this method, provided with a microstructured surface relief, are
particularly suitable for optical, electronic, micromechanical and/or dirt
repellency applications.
Μια μέθοδος περιγράφεται για την παραγωγή του α η ανακούφιση επιφάνειας με την εφαρμογή σε ένα υπόστρωμα μιας σύνθεσης επιστρώματος που είναι thixotropic ή που αποκτά τις thixotropic ιδιότητες από την προεπεξεργασία στο υπόστρωμα, αποτυπώνοντας την ανακούφιση επιφάνειας σε ανάγλυφο στην εφαρμοσμένη thixotropic σύνθεση επιστρώματος με μια συσκευή αποτύπωσης σε ανάγλυφο, και θεραπεία της σύνθεσης επιστρώματος μετά από την αφαίρεση της συσκευής αποτύπωσης σε ανάγλυφο. Τα υποστρώματα αποκτήσιμα μ' αυτό τον τρόπο, παρεχόμενος το α η ανακούφιση επιφάνειας, είναι ιδιαίτερα κατάλληλα για τις εφαρμογές οπτικού, ηλεκτρονικού, μικρομηχανικού ή/και repellency ρύπου.
