A mask of the present invention has a circuit pattern to be transferred to
a substrate via an optical system, and an inspection pattern to be used
for a measurement of a line width of the pattern transferred to the
substrate. By using such a mask, the time for proceeding from inspection
to actual device exposure can be shortened.
Μια μάσκα της παρούσας εφεύρεσης έχει ένα σχέδιο κυκλωμάτων που μεταφέρονται σε ένα υπόστρωμα μέσω ενός οπτικού συστήματος, και ένα σχέδιο επιθεώρησης που χρησιμοποιείται για μια μέτρηση ενός πλάτους γραμμών του σχεδίου που μεταφέρεται στο υπόστρωμα. Με τη χρησιμοποίηση μιας τέτοιας μάσκας, το χρόνο για την ενέργεια από την επιθεώρηση στην πραγματική έκθεση συσκευών μπορεί να κονταίνουν.
