A glass substrate having a surface which has been leveled, preferably to a
flatness of 0.04-1.3 nm/cm.sup.2 of the surface, by local plasma etching
is provided. A glass substrate whose surface carries microscopic peaks and
valleys is leveled by measuring the height of peaks and valleys on the
substrate surface, and plasma etching the substrate surface while
controlling the amount of plasma etching in accordance with the height of
peaks.
Ein Glassubstrat, das eine Oberfläche hat, die geebnet worden ist, vorzugsweise zu einer Flachheit von 0.04-1.3 nm/cm.sup.2 der Oberfläche, durch lokale Plasmaradierung wird zur Verfügung gestellt. Ein Glassubstrat dessen Oberfläche mikroskopische Spitzen trägt und Senken geebnet wird, indem man die Höhe der Spitzen und der Senken auf der Substratoberfläche mißt und Plasma, welches die Substratoberfläche beim Steuern der Menge der Plasmaradierung in Übereinstimmung mit der Höhe der Spitzen ätzt.
