An optical waveguide element capable of being coupled with optical fibers
at high coupling efficiency is to be provided. Also an optical waveguide
element manufacturing method permitting accurate production of such
optical waveguide elements is to be provided. The optical waveguide
element is provided with a buffer layer formed over a monocrystalline
substrate and an optical waveguide layer formed over the buffer layer, and
a recess is formed in the buffer layer along the lengthwise direction of
the monocrystalline substrate. The optical waveguide layer is provided to
fit into this recess to form a channel optical waveguide. Over the upper
face of the optical waveguide layer on the light incidence side and the
light emission side, a cladding layer whose refractive index is smaller
than that of the optical waveguide layer and whose thickness increases
towards the end face(s) in a flared shape is provided in the same width as
that of the monocrystalline substrate. By providing the cladding layer
whose refractive index is smaller than that of the optical waveguide
layer, it is made possible to expand the mode field diameter and
substantially reduce the coupling loss between the optical fiber and the
optical waveguide element. Further by increasing the thickness of the
cladding layer in a flared shape toward the end face(s), it is made
possible to gradually compress the mode field diameter and to reduce the
optical propagation loss within the optical waveguide.
Ein optisches Wellenleiterelement, das zu mit optischen Fasern verbunden werden an der hohen Koppelung Leistungsfähigkeit fähig ist, soll zur Verfügung gestellt werden. Auch eine optische Wellenleiterelement-Produktionsmethode, die genaue Produktion solcher optischer Wellenleiterelemente ermöglicht, soll zur Verfügung gestellt werden. Das optische Wellenleiterelement wird mit einer Pufferschicht versehen, die über einem monokristallinen Substrat gebildet werden und einer optischen Wellenleiterschicht, die über der Pufferschicht gebildet wird, und eine Aussparung wird in der Pufferschicht entlang der Längsrichtung des monokristallinen Substrates gebildet. Die optische Wellenleiterschicht wird zum Sitz in diese Aussparung zur Verfügung gestellt, um einen Führung optischen Wellenleiter zu bilden. Über dem oberen Gesicht der optischen Wellenleiterschicht auf der hellen Ausdehnung Seite und der hellen Emissionseite, eine Umhüllungschicht deren Brechungsindex kleiner ist, als der der optischen Wellenleiterschicht und deren Stärke Zunahmen in Richtung zum Ende face(s) einer erweiterten Form der gleichen Breite wie die des monokristallinen Substrates zur Verfügung gestellt wird. Indem man die Umhüllungschicht zur Verfügung stellt deren Brechungsindex kleiner als der der optischen Wellenleiterschicht ist, wird es, den Modus zu erweitern auffängt Durchmesser und verringert im wesentlichen die Koppeldämpfung zwischen der optischen Faser und dem optischen Wellenleiterelement ermöglicht. Fördern Sie, indem Sie die Stärke der Umhüllungschicht in einer erweiterten Form in Richtung zum Ende face(s) erhöhen, wird es, den Modus stufenweise zusammenzudrücken auffängt Durchmesser und den optischen Ausbreitungverlust innerhalb des optischen Wellenleiters zu verringern ermöglicht.
