This patent describes a method of manufacturing a gear driven shutter ink
jet print head wherein an array of nozzles are formed on a substrate
utilising planar monolithic deposition, lithographic and etching
processes. Multiple ink jet heads are formed simultaneously on a single
planar substrate such as a silicon wafer. The print heads can be formed
utilising standard VLSI/ULSI processing and can include integrated drive
electronics formed on the same substrate. The drive electronics preferably
being of a CMOS type. In the final construction, ink can be ejected from
the substrate substantially normal to the substrate plane.
Questo brevetto descrive un metodo di produzione della testa di stampa guidata adatt del getto di inchiostro dell'otturatore in cui un allineamento degli ugelli è formato su un substrato che utilizza il deposito monolitico planare, litografico ed incidente i processi all'acquaforte. Le teste multiple del getto di inchiostro sono formate simultaneamente su un singolo substrato planare quale una lastra di silicio. Le teste di stampa possono essere formate utilizzando VLSI/ULSI standard che procede e possono includere l'elettronica integrata dell'azionamento formata sullo stesso substrato. L'elettronica dell'azionamento preferibilmente che è di un tipo di CMOS. Nella costruzione finale, l'inchiostro può essere espulso dal substrato sostanzialmente normale all'aereo del substrato.
