Substrate processing apparatus for performing photolithography

   
   

A substrate processing apparatus for performing a resist coating process and a development process includes an inspection block for making an inspection on a substrate having undergone the development process. The inspection block has an inspection unit for making a predetermined inspection and a transport robot for transferring a substrate to and from the inspection unit. When a substrate to be inspected is transported to the inspection block, the transport robot transports the substrate to the inspection unit. When a substrate not to be inspected is transported to the inspection block, the transport robot transports the substrate directly to the outlet of the inspection block. At this time, a substrate not to be inspected is allowed to pass a preceding substrate to be inspected, at the inspection block. Thus provided is a substrate processing apparatus capable of improving the transport efficiency, to thereby achieve a higher throughput.

Un substrat traitant l'appareil pour effectuer un processus enduisant de résistance et un procédé de développement inclut un bloc d'inspection pour faire une inspection sur un substrat ayant subi le procédé de développement. Le bloc d'inspection a une unité d'inspection pour faire une inspection prédéterminée et un robot de transport pour transférer un substrat à et de l'unité d'inspection. Quand un substrat à inspecter est transporté au bloc d'inspection, le robot de transport transporte le substrat à l'unité d'inspection. Quand un substrat à ne pas inspecter est transporté au bloc d'inspection, le robot de transport transporte le substrat directement à la sortie du bloc d'inspection. Actuellement, on permet à un un substrat de ne pas être inspecté de passer un substrat précédent à inspecter, au bloc d'inspection. Fourni ainsi est un substrat traitant l'appareil capable d'améliorer l'efficacité de transport, pour réaliser de ce fait une sortie plus élevée.

 
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< Method for controlling a robot

< Modular motion unit with tensioner

> Substrate processing apparatus, and combined system of functional blocks for use in substrate processing apparatus

> Substrate processing apparatus

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