Resist compositions comprising as the base resin a polymer using an
alkoxyalkyl (meth)acrylate as a reactive group which is decomposable under
the action of an acid to increase solubility in alkali have advantages
including a practical level of shelf stability, a significantly enhanced
contrast of alkali dissolution rate before and after exposure, a high
sensitivity, and a high resolution over a wide baking temperature range.
The compositions are best suited as a chemically amplified positive resist
material for micropatterning in the manufacture of VLSI.
Resista las composiciones que abarcan como la resina baja un polímero usando un alkoxyalkyl (el meth)acrylate como grupo reactivo que sea descomponible bajo acción de un ácido aumentar solubilidad en álcali tiene ventajas incluyendo un nivel práctico de la estabilidad del estante, un contraste perceptiblemente antes y después realzado de la exposición de la tarifa de la disolución del álcali, una alta sensibilidad, y una alta resolución sobre una gama ancha de la temperatura de cocción. Las composiciones se satisfacen lo más mejor posible como positivo químicamente amplificado resisten el material para micropatterning en la fabricación del VLSI.
