An apparatus including:
(a) a substrate including a deposition region and an optional uncoated
region, wherein the deposition region includes a level intermediate region
disposed between a first end region and a second end region,
wherein the first end region includes a first raised surface portion
extending above the level intermediate region and extending
circumferentially around the first end region in a continuous manner; and
(b) a dip coated layer over the entire deposition region.
Un aparato incluyendo: (a) un substrato incluyendo una región de la deposición y una región sin recubrimiento opcional, en donde la región de la deposición incluye una región intermedia del nivel dispuesta entre una primera región del final y una segunda región del final, en donde la primera región del final incluye una primera porción superficial levantada que extiende sobre la región intermedia llana y que extiende circunferencial alrededor de la primera región del final en una manera continua; y (b) a la capa revestida de la inmersión sobre la región entera de la deposición.
