A high-frequency electron source includes a discharge chamber having at
least one gas inlet for a gas to be ionized and at least one extraction
opening for electrons. The high-frequency electron source also includes a
first electrode at least partially surrounding the discharge chamber and a
keeper electrode at least partially surround the discharge chamber. The
first electrode and the keeper electrode are configured to provide a
high-frequency electric field therebetween.
Uma fonte de alta freqüência do elétron inclui uma câmara da descarga que tem ao menos uma entrada do gás para um gás a ser ionizados e ao menos uma abertura da extração para elétrons. A fonte de alta freqüência do elétron inclui também um primeiro elétrodo ao menos que cerca parcialmente a câmara da descarga e um elétrodo do keeper ao menos cerca parcialmente a câmara da descarga. O primeiro elétrodo e o elétrodo do keeper são configurarados para fornecer um campo elétrico de alta freqüência therebetween.
