A chemically amplified positive resist composition contains as a base a
carboxyl or phenolic hydroxyl group-containing resin soluble in aqueous
alkaline solution, in which acid labile groups are incorporated into at
least some of the hydrogen atoms on the carboxyl or phenolic hydroxyl
groups so that the resin becomes insoluble or substantially insoluble in
alkali, wherein the resin contains acid labile groups of at least two
types, acid labile groups of one type are acetal or ketal groups, and acid
labile groups of the other type are tertiary hydrocarbon groups or
tertiary hydrocarbon group-containing substituents. The resist composition
remains stable during vacuum standing after exposure to electron beams or
soft x-rays, leaves minimal footings on chromium substrates, has an
excellent sensitivity and resolution, and is thus suited as a
micropatterning material for use in the processing of mask substrates.
Ένα χημικά ενισχυμένο θετικό αντιστέκεται στη σύνθεση περιέχει ως βάση μια καρβοξυλική ή φαινολική διαλυτή ουσία ρητίνης υδροξυλίου ομάδα-περιέχοντας στην υδάτινη αλκαλική λύση, στην οποία οι όξινες ασταθείς ομάδες ενσωματώνονται τουλάχιστον σε μερικά από τα άτομα υδρογόνου στις καρβοξυλικές ή φαινολικές ομάδες υδροξυλίου έτσι ώστε η ρητίνη γίνεται αδιάλυτη ή ουσιαστικά αδιάλυτη στο αλκάλιο, όπου η ρητίνη περιέχει τις όξινες ασταθείς ομάδες τουλάχιστον δύο τύπων, όξινες ασταθείς ομάδες ενός τύπου είναι ακετάλη ή ketal ομάδες, και οι όξινες ασταθείς ομάδες του άλλου τύπου είναι τριτογενείς ομάδες υδρογονανθράκων ή τριτογενή ομάδα-περιέχοντας substituents υδρογονανθράκων. Αντισταθείτε στη σύνθεση παραμένει σταθερός κατά τη διάρκεια του κενού που στέκεται μετά από την έκθεση στις δέσμες ηλεκτρονίων ή τις μαλακές ακτίνες X, αφήνει τις ελάχιστες θέσεις στα υποστρώματα χρωμίου, έχει μια άριστες ευαισθησία και μια ανάλυση, και είναι έτσι ταιριαγμένος ως micropatterning υλικό για τη χρήση στην επεξεργασία των υποστρωμάτων μασκών.
