Alignment method and apparatus therefor

   
   

A method of transferring a pattern of a mask onto shot areas on a substrate determines two sets of parameters in a single model equation. The parameters in one of the two sets relate to arrangement of a plurality of shot areas on the substrate, and the parameters in the other set relate to the shot areas per se. The mask and the substrate are moved relatively in accordance with the determined parameters.

Une méthode de transférer un modèle d'un masque sur des secteurs de projectile sur un substrat détermine deux ensembles de paramètres dans une équation modèle simple. Les paramètres dans un des deux ensembles se relient à l'arrangement d'une pluralité de secteurs de projectile sur le substrat, et les paramètres dans l'autre ensemble se relient aux secteurs de projectile intrinsèquement. Le masque et le substrat sont déplacés relativement selon les paramètres déterminés.

 
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