A method of transferring a pattern of a mask onto shot areas on a substrate
determines two sets of parameters in a single model equation. The
parameters in one of the two sets relate to arrangement of a plurality of
shot areas on the substrate, and the parameters in the other set relate to
the shot areas per se. The mask and the substrate are moved relatively in
accordance with the determined parameters.
Une méthode de transférer un modèle d'un masque sur des secteurs de projectile sur un substrat détermine deux ensembles de paramètres dans une équation modèle simple. Les paramètres dans un des deux ensembles se relient à l'arrangement d'une pluralité de secteurs de projectile sur le substrat, et les paramètres dans l'autre ensemble se relient aux secteurs de projectile intrinsèquement. Le masque et le substrat sont déplacés relativement selon les paramètres déterminés.
