A resist composition comprising as the base resin a blend of a fluorinated
polymer which is sensitive to high-energy radiation and highly transparent
at a wavelength of up to 200 nm and a sulfonate-containing polymer
exhibiting a high contrast upon alkali dissolution is improved in
transparency and alkali dissolution contrast as well as plasma etching
resistance.
Состав сопротивлять состоя из как низкопробная смолаа бленда fluorinated полимера чувствительно к с высокой энергией радиации и высоки прозрачно на длине волны up to 200 nm и сульфонат-soderja полимер exhibiting высокий контраст на растворении алкалиа улучшен в контрасте растворения транспаранта и алкалиа так же, как сопротивление вытравливания плазмы.
