An alignment system for a lithographic apparatus includes a detection
system arranged in a path of at least a portion of an alignment radiation.
The alignment system also includes a position determining unit in
communication with the detection system. The position determining unit is
adapted to measure a position of at least one alignment mark on a
substrate. The substrate is overlaid with a layer of deposited material. A
calculating unit is coupled to the position determining unit. The
calculating unit calculates a corrected position of the alignment mark on
the basis of the position of the at least one alignment mark being
measured and a model of a process apparatus involved in a deposition of
the layer of deposited material. The model taking into account an amount
of deposition of the layer of deposited material.
Een groeperingssysteem voor een lithografisch apparaat omvat een geschikt opsporingssysteem in een weg van minstens een gedeelte van een groeperingsstraling. Het groeperingssysteem omvat ook een positie bepalende eenheid in communicatie met het opsporingssysteem. De positie bepalende eenheid wordt aangepast om een positie van minstens één groeperingsteken op een substraat te meten. Het substraat wordt bedekt met een laag van gedeponeerd materiaal. Een het berekenen eenheid wordt gekoppeld aan de positie bepalende eenheid. De het berekenen eenheid berekent een verbeterde positie van het groeperingsteken op de basis van de positie van bij minste één groeperingsteken dat en een model van een procesapparaat betrokken bij een deposito van de laag van gedeponeerd materiaal wordt gemeten. Het model dat met een hoeveelheid deposito van de laag van gedeponeerd materiaal rekening houdt.
