A plasma processing device include a plasma generation unit for generating
plasma by using a cathodic arc discharge, first and second magnetic field
ducts arranged in a row for transporting the plasma with one end of the
row being connected to the plasma generation unit and a processing chamber
connected to the other end of the row unit and having a stage for holding
a substrate to be processed. A shutter is provided for covering the plasma
during a period of a predetermined time after start of arc discharge or
during a period of predetermined time before end of arc discharge. The
shutter is disposed between the first magnetic field duct and the
substrate to be processed, and is movable. The shutter is capable of being
supplied with a voltage, and is kept in a state so as to be electrically
insulated from the processing chamber.
Μια συσκευή επεξεργασίας πλάσματος περιλαμβάνει μια μονάδα παραγωγής πλάσματος για την παραγωγή του πλάσματος με τη χρησιμοποίηση μιας καθοδικής απαλλαγής τόξων, πρώτα και δεύτερων αγωγών μαγνητικών πεδίων που τακτοποιούνται σε μια σειρά για τη μεταφορά του πλάσματος με ένα τέλος του σύνδεσης της σειράς με τη μονάδα παραγωγής πλάσματος και μια αίθουσα επεξεργασίας που συνδέονται με το άλλο τέλος της μονάδας σειρών και που έχει ένα στάδιο για το κράτημα ενός υποστρώματος που υποβάλλεται σε επεξεργασία. Ένα παραθυρόφυλλο παρέχεται για την κάλυψη του πλάσματος κατά τη διάρκεια μιας περιόδου προκαθορισμένου χρόνου μετά από την έναρξη της απαλλαγής τόξων ή κατά τη διάρκεια μιας περιόδου προκαθορισμένου χρόνου πριν από το τέλος της απαλλαγής τόξων. Το παραθυρόφυλλο διατίθεται μεταξύ του πρώτου αγωγού μαγνητικών πεδίων και του υποστρώματος που υποβάλλονται σε επεξεργασία, και είναι κινητό. Το παραθυρόφυλλο είναι σε θέση της παροχής μια τάση, και κρατιέται σε ένα κράτος ώστε να μονωθεί ηλεκτρικά από την αίθουσα επεξεργασίας.
