Method and apparatus for performing pattern defect repair using Q-switched mode-locked pulse laser

   
   

A method for repairing a pattern by using a laser and a laser-based pattern repair apparatus are provided which are capable of reducing splashes, rolling-up, and damage to a glass substrate to a minimum in pattern defects repairing processing by removing a thin metal layer such as a chromium layer. A part of a string of pulses obtained by slicing, using an optical shutter, pulses from laser light having a pulse width of 10 ps to 300 ps emitted from a Q-switched mode-locked pulse laser is used to produce multi-pulses which are divided into two portions in terms of time base correction using an optical delaying unit.

Un método para reparar un patrón usando un laser y un aparato laser-basado de la reparación del patrón se proporcionan que son capaces de la reducción salpican, balanceo-para arriba, y el daños a un substrato de cristal a un mínimo en los defectos del patrón que reparan el proceso quitando una capa fina del metal tal como una capa del cromo. Una parte de una cadena de pulsos obtenidos rebanando, usando un obturador óptico, pulsos de la luz laser que tiene una anchura del pulso de 10 picosegundos a 300 picosegundos emitidos de un laser modo-bloqueado Q-cambiado del pulso se utiliza para producir los multi-pulsos que se dividen en dos porciones en términos de la corrección de la base del tiempo usando una unidad delaying óptica.

 
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