An exposure apparatus has a projection optical system for projecting a
pattern onto a substrate. The projection optical system includes a
correction lens for correcting optical characteristics thereof. The
apparatus includes a driving unit which drives the correction lens to a
target position, a monitor unit which monitors a positional displacement
of the correction lens from the target position during exposure of the
substrate, and a control unit which controls a process during or after the
exposure on the basis of a monitoring result obtained by the monitor unit.
Прибор выдержки имеет систему проекции оптически для проектировать картину на субстрат. Система проекции оптически вклюает объектив коррекции для исправлять оптически характеристики thereof. Прибор вклюает управляя блок управляет объективом коррекции к положению цели, блоку монитора который контролирует позиционноцикловое смещение объектива коррекции от положения цели во время выдержки субстрата, и блоку управления которого контролирует процесс во время или после выдержки on the basis of контролируя результат полученный блоком монитора.
