Exposure apparatus and method that exposes a pattern onto a substrate

   
   

An exposure apparatus that exposes a pattern of a mask onto a substrate is provided with a projection system that projects the pattern onto a substrate, a holder that holds the projection system, a detector that detects information concerning displacement (e.g., oscillation) of the projection system, an actuator that is arranged in the holder, and a driver that drives the actuator corresponding to the detection results of the detector. Therefore, when, for example, displacement caused by vibration is generated in the holder of the projection system, the detector detects information concerning this displacement and outputs this information to the driver. By driving the actuator with the driver, the actuator controls displacement generated in the holder by canceling the detected displacement. This improves positioning accuracy and pattern projection accuracy of the exposure apparatus by controlling displacement caused by oscillation generated in the projection system.

Un'apparecchiatura per l'esposizione che espone un modello di una mascherina su un substrato è fornita di un sistema della proiezione che proietta il modello su un substrato, un supporto che tiene il sistema della proiezione, un rivelatore che rileva le informazioni riguardo a spostamento (per esempio, oscillazione) del sistema della proiezione, di un azionatore che è organizzato nel supporto e di un driver che guida l'azionatore che corrisponde ai risultati di rilevazione del rivelatore. Di conseguenza, quando, per esempio, lo spostamento causato tramite la vibrazione è generato nel supporto del sistema della proiezione, il rivelatore rileva le informazioni riguardo a questo spostamento e produce queste informazioni al driver. Guidando l'azionatore con il driver, l'azionatore controlla lo spostamento generato nel supporto annullando lo spostamento rilevato. Ciò migliora posizionare l'esattezza della proiezione del modello e di esattezza dell'apparecchiatura per l'esposizione controllando lo spostamento causato da oscillazione generata nel sistema della proiezione.

 
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