Aromatic aliphatic ether solvents, such as anisole, methylanisole, and
phenetole, have been found useful in formulating coating solutions of
polymeric dielectric materials and as a clean up solvent in the coating
process. A process for forming a dielectric film on a substrate includes
depositing a coating solution of a dielectric material in a formulation
solvent onto a surface of the substrate and depositing an aromatic
aliphatic ether solvent onto an edge portion of the surface of the
substrate. The process is used to form films of dielectric materials
including arylene ether dielectric polymers, hydridosiloxane resins,
organohydridosiloxane resins, spin-on-glass materials, partially
hydrolyzed and partially condensed alkoxysilane compositions which are
cured to form a nanoporous dielectric silica material, and
poly(perhydrido)silazanes.
Los solventes alifáticos aromáticos del éter, tales como anisole, methylanisole, y phenetole, se han encontrado útiles en formular las soluciones de capa de materiales dieléctricos poliméricos y como solvente ascendente limpio en el proceso de capa. Un proceso para formar una película dieléctrica en un substrato incluye depositar una solución de capa de un material dieléctrico en un solvente de la formulación sobre una superficie del substrato y depositar un solvente alifático aromático del éter sobre una porción del borde de la superficie del substrato. El proceso se utiliza para formar las películas de materiales dieléctricos incluyendo los polímeros dieléctricos del éter del arylene, las resinas del hydridosiloxane, las resinas del organohydridosiloxane, los materiales del hacer girar-en-cristal, hidrolizados parcialmente y las composiciones parcialmente condensadas del alkoxysilane que se curan para formar un material dieléctrico nanoporous de la silicona, y los poly(perhydrido)silazanes.
