A lithography system of in-line type includes environment sensors disposed
within a chamber in which an exposure apparatus body is housed and a
chamber in which a coater/developer body is housed. During a lithography
process, on the basis of measured values such as air pressure temperature
and humidity measured by the environment sensors, and environment control
portion controls air conditioning portions in such a manner that the
environmental conditions in the chambers becomes substantially the same as
each other. Whereby, even when a wafer is transferred through a connecting
portion, the environmental conditions in the chambers do not badly
influence each other.
Um sistema do lithography do tipo in-line inclui os sensores do ambiente dispostos dentro de uma câmara em que um corpo do instrumento de exposição é abrigado e de uma câmara em que um corpo de coater/developer é abrigado. Durante um processo do lithography, na base de valores medidos tais como a temperatura e a umidade da pressão de ar medidas pelos sensores do ambiente, e parcelas do condicionamento de ar dos controles da parcela do controle ambiental em tal maneira que as condições ambientais nas câmaras se transformam substancialmente as mesmas que. Por meio de que, nivele quando um wafer é transferido através de uma parcela conectando, as condições ambientais nas câmaras não se influenciam mal.
