A method for forming a CVD film, comprising the steps of loading at least one object to be processed into a processing chamber and positioning the object on a support base in the processing chamber, after positioning the object in the processing chamber, introducing a process gas from a corresponding gas supply source via a corresponding gas introducing pipe into the processing chamber and forming a film by a chemical vapor deposition method on the object in the processing chamber, after forming the film on the object, unloading the object from the processing chamber, after unloading the object from the processing chamber, dry-cleaning an inside of the processing chamber, and after dry-cleaning the inside of the processing chamber, introducing an inert gas via a corresponding gas introducing pipe into the chamber to purge those particles deposited as a residue in the gas introducing pipe and inside of the chamber.

Un metodo per formare una pellicola di CVD, contenendo i punti il carico almeno dell'un oggetto da procedere in un alloggiamento d'elaborazione e posizionare l'oggetto su una base di sostegno nell'alloggiamento d'elaborazione, dopo avere posizionato l'oggetto nell'alloggiamento d'elaborazione, introducendo un gas trattato da una fonte corrispondente dell'approvvigionamento di gas via un gas corrispondente che introduce tubo nell'alloggiamento d'elaborazione e che forma una pellicola con un metodo di deposito di vapore chimico sull'oggetto nell'alloggiamento d'elaborazione, dopo avere formato la pellicola sull'oggetto, scaricante l'oggetto dall'alloggiamento d'elaborazione, dopo lo scarico dell'oggetto d'elaborazione dall'alloggiamento, dal lavaggio a secco una parte interna dell'alloggiamento d'elaborazione e dopo dal lavaggio a secco la parte interna dell'alloggiamento d'elaborazione, introducente un gas inerte via un gas corrispondente che introduce tubo nell'alloggiamento per eliminare l'inceppo quelle particelle depositate come residuo nel gas che introduce tubo e parte interna dell'alloggiamento.