A positive chemical amplified photoresist composition having as a matrix resin a polymer having the repeating unit of Formula (I) and a photoacid generator. The polymer ranges, in polystyrene-reduced weight average molecular weight, from about 2,000 to 1,000,000. The photoresist composition is possible to develop in alkali and shows excellent sensitivity, resolution and transmissivity to deep uv light in addition to being superior in storage preservativity. The repeating unit of Formula (I) is: ##STR1## wherein, R.sub.2, R.sub.2 and R.sub.3 are independently represented by a hydrogen atom or a methyl group; R.sub.4 is a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group; R.sub.5 is functions as an acid-labile protective group and is selected from a t-butyl group, a tetrahydropyranyl group or an alkoxymethylene group; j is an integer of 1-8; k is an integer of 0-8; and 1, m and n each represent a mole ratio, satisfying the condition of l+m+n=1 where 0<1<0.4.

Μια θετική χημική ενισχυμένη photoresist σύνθεση που έχει ως ρητίνη μητρών ένα πολυμερές σώμα που έχει τη μονάδα επανάληψης του τύπου (I) και μιας γεννήτριας photoacid. Το πολυμερές σώμα κυμαίνεται, σε πολυστυρόλιο-μειωμένο μέσο μοριακό βάρος βάρους, από περίπου 2.000 έως 1.000.000. Η photoresist σύνθεση είναι δυνατή να αναπτυχθεί στο αλκάλιο και παρουσιάζει την άριστες ευαισθησία, την ανάλυση και μεταβιβασιμότητα στο βαθύ UV φως εκτός από την ύπαρξη ανώτερη στο preservativity αποθήκευσης. Η μονάδα επανάληψης του τύπου (I) είναι: ## STR1 ## όπου, R.sub.2, R.sub.2 και R.sub.3 αντιπροσωπεύονται ανεξάρτητα από ένα άτομο υδρογόνου ή μια μεθυλική ομάδα το R.sub.4 είναι ένα άτομο υδρογόνου, αλκυλική ομάδα ή αλκόξινη ομάδα το R.sub.5 είναι λειτουργίες ως όξινος-ασταθής προστατευτική ομάδα και επιλέγεται από μια τ-βουτυλική ομάδα, μια ομάδα tetrahydropyranyl ή μια ομάδα alkoxymethylene το j είναι ένας ακέραιος αριθμός 1-8 το Κ είναι ένας ακέραιος αριθμός 0-8 και 1, το μ και το ν κάθε ένα αντιπροσωπεύουν μια αναλογία τυφλοπόντικων, που ικανοποιεί τον όρο l+m+n=1 όπου 0