A substrate structure having three-dimensional functional film network comprising a plurality of radio frequency discharge plasma film layers. The plasma film layers include a first layer, comprising a plurality of a first functional group, and a second layer, comprising a plurality of a second functional group. The employment of three-imensional film networks with desired functional groups located either on the periphery or both the periphery and interstitial spaces of the networks provides means for significantly increasing the surface functional density.

Une structure de substrat ayant le réseau fonctionnel tridimensionnel de film comporter une pluralité du film de plasma de décharge de fréquence par radio pose. Les couches de film de plasma incluent une première couche, comportant une pluralité d'un premier groupe fonctionnel, et une deuxième couche, comportant une pluralité d'un deuxième groupe fonctionnel. L'emploi des réseaux de film de three-imensional avec les groupes fonctionnels désirés a placé ou sur la périphérie ou les espaces de périphérie et d'interstitiel des réseaux fournit des moyens pour augmenter de manière significative la densité fonctionnelle extérieure.