A chemical refining and reuse method and apparatus efficiently remove water from a waste chemical used in a semiconductor device fabrication process. The method is superior to conventional refining methods, in that water is removed at the end of the refining process, followed only by particle removal, so that water is not reintroduced into the waste chemical during metallic impurity removal. Therefore, the refined waste chemical has a percentage of water therein which is equal to that of the chemical in an initial raw state. The method includes: a) removing ionic impurities contained in the waste chemical; b) removing metallic impurities contained in the waste chemical after removing the ionic impurities; c) removing water contained in the waste chemical after removing the metallic impurities; and d) removing particles contained in the waste chemical after removing the water.

Um refining e um método e um instrumento químicos reusar removem eficientemente a água de um produto químico waste usado em um processo da fabricação do dispositivo de semicondutor. O método é superior aos métodos convencionais do refining, que a água está removida no fim do processo de refining, seguido somente pela remoção da partícula, de modo que a água não reintroduced no produto químico waste durante a remoção metálica da impureza. Conseqüentemente, o produto químico waste refinado tem uma porcentagem da água nisso que é igual àquela do produto químico em um estado cru inicial. O método inclui: a) removendo as impurezas ionic contidas no produto químico waste; b) removendo as impurezas metálicas contidas no produto químico waste após ter removido as impurezas ionic; c) removendo a água contida no produto químico waste após ter removido as impurezas metálicas; e d) removendo as partículas contidas no produto químico waste após ter removido a água.