A chemical mechanical polishing composition comprising a composition capable of etching tungsten and at least one inhibitor of tungsten etching and methods for using the composition to polish tungsten containing substrates.

Een chemische mechanische het oppoetsen samenstelling die uit een samenstelling geschikt voor etswolfram en minstens één inhibitor van wolfram ets en methodes om de samenstelling bestaat te gebruiken om wolfram op te poetsen dat substraten bevat.