In a robot hand of an automatic handling robot for holding and carrying a semiconductor wafer or the like, the robot hand 10 itself is made of a porous material, for example, porous ceramic, and the surface portion thereof other than portions corresponding to a wafer suction portion 13 and a suction air intake 14 is coated with a film which does not permit the passage of air, for example, fluorocarbon resin or the like. Air can pass through the porous portion.

In una mano del robot di un robot di maneggiamento automatico per la tenuta e trasportare una cialda a semiconduttore e simili, la mano 10 del robot in se è fatta di un materiale poroso, per esempio, di ceramica poroso e la parte di superficie di ciò tranne le parti che corrispondono ad una parte 13 di aspirazione della cialda e ad una presa di aria di aspirazione 14 sono ricoperti di pellicola che non consente il passaggio di aria, per esempio, della resina del fluorocarburo e simili. L'aria può passare attraverso la parte porosa.