In a particle beam lithography system, focus adjustment is controlled by a measurement of the gap between the workpiece being processed and a reference surface, such as the bottom surface of the focus lens, using a pair of capacitive sensors mounted on an arm that rotates to place one sensor on the beam axis to measure the workpiece height and the other displaced from the beam aperture to measure the height of the reference surface. The sum of the two readings is constant (for a given gap dimension), so that the accuracy of the measurement is not affected by the position of the arm within the gap.

In een de lithografiesysteem van de deeltjesstraal, wordt de nadrukaanpassing gecontroleerd door een meting van het hiaat tussen het werkstuk en een verwijzingsoppervlakte die, zoals de bodem van de nadruklens, gebruikend een paar capacitieve sensoren opgezet op een wapen worden verwerkt dat roteert om één sensor op de straalas om de werkstukhoogte te meten en andere te plaatsen verplaatst van de straalopening om de hoogte van de verwijzingsoppervlakte te meten. De som twee lezingen is constant (voor een bepaalde hiaatdimensie), zodat de nauwkeurigheid van de meting niet door de positie van het wapen binnen het hiaat wordt beïnvloed.