The present invention provides a method and an optical lithographic system which eliminates the standing wave effect typically observed in photoresists without the need for altering the thickness of the photoresist, utilizing an anti-reflective coating material, or changing the light source. Specifically, the present invention compensates for standing waves by exposing the photoresist with light from a light source at different phases. That is, in the present invention there is a change in light exposure from a single dose at one phase to a plurality of doses at different phases; therefore dispersing the effects of the standing wave at each of those phases which in turn eliminates the standing wave.

Η παρούσα εφεύρεση παρέχει μια μέθοδο και ένα οπτικό λιθογραφικό σύστημα που εξαλείφει τη μόνιμη επίδραση κυμάτων που παρατηρείται χαρακτηριστικά photoresists χωρίς την ανάγκη για το πάχος photoresist, ένα αντι-αντανακλαστικό υλικό επιστρώματος, ή την πηγή φωτός. Συγκεκριμένα, η παρούσα εφεύρεση αντισταθμίζει τα μόνιμα κύματα με την έκθεση photoresist με το φως από μια πηγή φωτός στις διαφορετικές φάσεις. Δηλαδή στην παρούσα εφεύρεση υπάρχει μια αλλαγή στην ελαφριά έκθεση από μια ενιαία δόση σε μια φάση σε μια πολλαπλότητα των δόσεων στις διαφορετικές φάσεις επομένως διασκορπίζοντας τα αποτελέσματα του μόνιμου κύματος σε κάθε μια από εκείνες τις φάσεις που αποβάλλει στη συνέχεια το μόνιμο κύμα.