Inspection equipment for detecting defects in a wafer is provided in a coating and developing system including a plurality of kinds of processing units for performing processing necessary for coating a wafer with a resist and processing necessary for developing the resist on the wafer. The transfer of the wafer between the processing units and the inspection equipment is performed by means of a main transfer device. The inspection equipment sends an inspection result as a detection signal to a controller, and the controller which receives the detection signal controls exposure conditions for an aligner according to the presence or absence of defects and adjusts a frequency regulating mechanism to control inspection frequency. The wafer is transferred between the processing units and the inspection equipment by the main transfer device, whereby the wafer is not artificially contaminated.

Het materiaal van de inspectie om tekorten in een wafeltje wordt te ontdekken verstrekt in het met een laag bedekken en het ontwikkelende systeem met inbegrip van een meerderheid van soorten verwerkingseenheidën voor het uitvoeren van verwerking noodzakelijk voor het met een laag bedekken van een wafeltje met verzet tegenzich en de verwerking noodzakelijk voor zich ontwikkelen verzet tegenzich op het wafeltje. De overdracht van het wafeltje tussen de verwerkingseenheidën en het inspectiemateriaal wordt uitgevoerd met behulp van een hoofdoverdrachtapparaat. Het inspectiemateriaal verzendt een inspectieresultaat als opsporingssignaal naar een controlemechanisme, en het controlemechanisme dat de voorwaarden van de de controlesblootstelling van het opsporingssignaal voor aligner volgens de aanwezigheid of het ontbreken van tekorten ontvangt en een frequentie regelend mechanisme aan de frequentie van de controleinspectie aanpast. Het wafeltje wordt overgebracht tussen de verwerkingseenheidën en het inspectiemateriaal door het belangrijkste overdrachtapparaat, waardoor het wafeltje niet kunstmatig vervuild is.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Laser distance-measuring instrument for large measuring ranges

> Preexposure method and device for photosensitive film

> (none)

~ 00013