A method of manufacturing a liquid crystal display having a thin film transistor including a gate electrode extending from a gate line, a first insulation layer covering the gate electrode, a semiconductor layer, an ohmic contact layer, a source electrode extending from a data bus line, a drain electrode, and a second insulation layer covering the semiconductor layer, the method including the steps of performing a surface-treatment, such as plasma treatment, on a surface of the semiconductor layer, and forming the second insulation layer made of an organic material on the treated surface of the semiconductor layer.

Eine Methode der Produktion einer Flüssigkristallanzeige, die einen Dünnfilmtransistor einschließlich eine Gate-Elektrode verlängert von einer Gatterlinie, von einer ersten Isolierung Schicht bedecken die Gate-Elektrode, von einer Halbleiterschicht, von einer ohmschen Kontaktschicht, von einer Quelelektrode verlängern von einer Datenübertragungsweglinie, von einer Abflußelektrode und von einer zweiten Isolierung Schicht umfaßt die Halbleiterschicht, die Methode einschließlich die Schritte des Durchführens einer Oberfläche-Behandlung, wie Plasmabehandlung, auf einer Oberfläche der Halbleiterschicht und der Formung der zweiten Isolierung Schicht gebildet von einem organischen Material auf der behandelten Oberfläche der Halbleiterschicht hat.